真空井式坩堝爐，集控制系統與爐膛一體，其中爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控硅碳棒加熱。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統，可在流動氣氛和真空狀態下快速加熱樣品。主要用于金屬、非金屬及化合物材料進行燒結、融化、分析。控制面板配有智能溫度調節儀，控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕，以便隨時觀察。
坩堝爐的技術參數
工作溫度:≤1100℃
最高溫度:1200℃
控溫方式:智能化可編程控制
升溫最快速率:40℃/min
恒溫精度:±1℃
爐門結構:上開式
工作電源:AC220V
額定功率:3KW
主要特點:
硅碳棒作為發熱元件，可加熱到1200℃高純石英杯（2520不銹鋼）:250外徑x 230內徑x 300高mm 。高精度不銹鋼針閥和真空表及真空法蘭可直接使用。內置30段可編程精密數字溫度控制器可控制升降溫速率。
坩鍋爐主要應用:
煅燒真空或惰性氣體的高純度化合物退火或擴散半導體晶片多達6“直徑